В конце прошлого года Минпромторг выделил 5,7 млрд рублей на разработку отечественных литографических сканеров. На днях стало известно, что Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) приступил к проектным работам по этому заказу. Подробно о планах центра по проекту ресурсу zelenograd.ru рассказал генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалёв.

Центр заключил с Минпромторгом два контракта: один на разработку сканеров с уровнем топологии до 350 нм, второй — до 130 нм (в интервью говорится о степперах, хотя это старое название сканеров, когда фотомаски механически сдвигались для проекции на новый участок кремниевой подложки). В итоге, как планируется, полностью отечественные фотолитографы придут на замену импортным, в частности, используемым сейчас на зеленоградских фабриках.

Освоение серийного производства фотолитографов на 350 нм ожидается в 2025 году. Для установки будет взят готовый полупроводниковый лазер отечественного производства. Не исключено, что в будущем для этого могут быть также использованы лазеры зеленоградских компаний. Согласно контракту, проект сканера и его опытный образец должны быть готовы к концу 2024 года, включая всю документацию для запуска серийного производства установки.

Из конкурсной документации следует, что 350-нм сканер будет представлять собой 3,5-тонную установку размерами 2 × 2,6 × 2,5 м с управляющим комплексом габаритами 2 × 0,8 × 1,6 м. Установка ориентирована на обработку 150- и 200-мм кремниевых подложек.

Разработка 130-нм сканера завершится примерно на год позже. Для этого сканера будет с нуля создаваться отечественный 193-нм лазер, чтобы уйти от импортных комплектующих, в частности, от лазеров американской компании Cyber, которые сегодня широко используются на российских полупроводниковых заводах. По этой причине завершение проекта 130-нм сканера затянется на чуть большее время.

В серийное производство проект 130-нм сканера с возможностью обработку до сотни 200-мм пластин в час передадут в конце 2026 года. В дальнейшем установка будет модернизирована для выпуска чипов с меньшими технологическими нормами вплоть до 65 нм. Снижение размеров топологии, в том числе, будет достигаться двойным экспонированием. Основным типоразмером пластин для этого сканера станет 200-мм подложка с опциональным использованием 150-мм подложек.

По словам разработчиков, подавляющее большинство заказов на выпуск чипов в мире лежит в диапазоне от 250 до 65 нм, поэтому нет смысла гнаться за десятками и единицами нанометров. Для России в этом проекте главное — это уйти от возможных санкций на поставки промышленного полупроводникового оборудования. Собственное производство сканеров может обезопасить электронную промышленность страны.

Серийный производитель сканеров ещё не выбран. Это может быть ЗНТЦ, зеленоградские компании или белорусские партнёры в лице компании «Планар». В СССР литографические сканеры, которые, кстати, до сих пор продолжают работать на российских фабриках, выпускал минский завод «Планар». Эта практика может распространиться на выпуск сканеров нового поколения.


Источник: 3dnews.ru